Intel a dévoilé nombre de détails concernant le processus de gravure en 32 nm. Le fondeur avait annoncé en début d’année sa volonté de moderniser son outil de production en investissant 7 millions de dollars dans ses usines américaines en vue de déployer massivement cette technologie.
Cette gravure plus fine sera obtenue en faisant appel à une lithographie par immersion qui permet de réduire la longueur d’onde du faisceau lumineux utilisé pour la gravure en le faisant passer par un fluide intermédiaire (en l’occurrence de l’eau pure). Le résultat obtenu devrait autoriser l’arrivée sur le marché de processeurs aussi performants, avec des gains espérés entre 14 et 22 % par rapport à la génération 45 nm, qu’énergétiquement efficaces.
Intel a évidemment profité du CeBIT pour faire ses premières démonstrations sur des PC fixes et portables (nom de code Clarkdale et Arrandale) dotés de solutions graphiques intégrées. Côté serveur le Xeon évoluera également dans une déclinaison Nehalem EP à base de quad-core avec en plus l'apport de l'Hyperthreading (8 coeurs visibles dans le système d'exploitation), du QPI et du support de 3 bancs de mémoire DDR3.
